问答题
简述硅栅p阱CMOS的光刻步骤。
发布日期：2020-12-11
试题解析
光刻
光刻是平面型晶体管和集成电路生产中的一个主要工艺。是对半导体晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)进行开孔，以便进行杂质的定域扩散的一种加工技术。
- 中文名
- 光刻
- 又称
- microlithography
- 外文名
- Photomasking, masking, photolithography; lithography
硅栅
硅栅（silicon gate）是1993年公布的电子学名词。
- 中文名
- 硅栅
- 所属学科
- 电子学
- 外文名
- silicon gate
- 公布时间
- 1993年
简述
简述是一个汉语词汇，意思是用简要的语言陈述，描述或总结。
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